1.HDF800 Series Válvula de Mariposa con Revestimiento de Flúor puede resistir la corrosión de casi todos los productos químicos.
2.La construcción completamente sellada cumple el requerimiento de cero fugas.
3.Pequeñas dimensiones, peso ligero, fácil desmontaje y mantenimiento, y operación conveniente.
4.Ampliamente utilizado en la regulación o aislamiento de medios corrosivos como ácidos,álcalis y sal.
Rango de Tamaño | 2 ” -48″ (50mm – 1200mm) | Materiales del Cuerpo | WCB, CF8, CF8M (con revestimiento de FEP, PFA, EPDM) |
Estilo de Cuerpo | Wafer | Materiales de Cuerpo | WCB, CF8, CF8M (con revestimiento de FEP, PFA,EPDM) ZCuAI10Fe3 (bronce de aluminio) |
Forma de Placa de Válvula | Tipo de Deflector | Materiales de Asiento | Polyperfluoroethylene (FEP) -30 ~ 150 ℃ Perfluoroalkoxy resin (PFA) -30 ~ 180 ℃ EPDM rubber -40 ~ 135 ℃ |
Características de Flujo | Aproximadamente el mismo porcentaje, encendido / apagado | Materiales del Vástago | Acero inoxidable, acero de dos fases |
Presiones Nominales | ANSI150, PN10, PN16 | Tipo de Bonete Superior | HDF800 series tipo estándar |
Estándar de Brida | ASME B16.5-2013
DIN EN 1092-1-2008 |
Estructura | Válvula mariposa con revestimiento de caucho (revestimiento de flúor) de serie HDF800 |
Cara a Cara | Consulte las dimensiones de conexión de la válvula de mariposa de la serie HDF200 | Aplicaciones | Ácido sulfúrico, ácido fluorhídrico, ácido fosfórico, cloro, álcali, aguamarina, etc. |
Clasificación de la Cierre | Cero Fuga | Estilo de Prueba | Transmisión manual, neumática, transmisión eléctrica |
HDF800 serie válvula mariposa con revestimiento de caucho (revestimiento de flúor) es una válvula reguladora de estructura simple, facíl de operar, vida útil prolongada y peso ligero. Puede realizar funciones de aislamiento y regulaciones, adecuadas para manejar una multitud de aplicaciones corrosivas en la industria como la química, farmacéutica, alimentaria, pulpa y papel, tratamiento del agua y otras industrias y los medios pueden ser gas, líquido,lodos y polvo sólido, etc.